據天下雜誌報導,台積自製的光罩基板(mask blank),造價數百萬,上頭80層多層膜反射層,只要有幾顆奈米級的灰塵,就會對晶片良率造成莫大影響。EUV量產階段的最關鍵技術,就是一片50奈米厚度的光罩護膜(pellicle),用在晶圓生產的光罩上頭,只要一顆灰塵掉落,就足以讓整批晶圓報廢。
ASML研發副總經理嚴濤南表示,後來台積電在光罩盒加上一種特殊的防塵設計,並大膽量產,台積電從此突破瓶頸,大量使用EUV微影技術製程,技術也遠拋其他對手。
同時也有10000部Youtube影片,追蹤數超過2,910的網紅コバにゃんチャンネル,也在其Youtube影片中提到,...
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