關於 光學離子源 ，我們在網路上蒐集到這些相關的討論、資訊與評價

#11. 12 厘米RF 离子源

利用Veeco 12 厘米RF 离子源改进长期连续反应性工艺的性能和质量，例如光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。

#12. LCMS-8045 - 特色

強大的離子源和進樣系統. Shimadzu 的質譜結合高靈敏度加熱ESI 源、加熱毛細管進樣和專有離子傳輸光學器件特性，產生抗污染能力強大的質譜性能。25 天連續分析12,000 個 ...

#13. OIS-One/OIS-Two/OIS-Two Plus | 离子源| 产品介绍

... 离子源，最适于在高速率下的离子束辅助沉积（IAD）及清洗。搭载在光驰的成膜设备OTFC-1100,OTFC-1300上最适于各种光学滤光片的中规模量产。 OIS-Two Plus是OIS-Two的 ...

#14. 激光烧灼离子源束流光学模拟

在这一过程中，离子源内部束流光学的模拟显得尤为重要，直接关系到加速器束流传输的效率，离子能量的展宽等。因此，我们利用COMSOL多物理场仿真软件中的AC/DC模块，粒子 ...

#15. 多功能聚焦離子束系統FIB - 國立中興大學材料科學與工程學系

副標題, 聚焦離子束顯微鏡(FIB, Focus Ion Beam Microscope)採用Ga 液態金屬離子源, 藉由離子光學系統形成聚焦離子束, 由於離子束具備撞擊能力,因此在現代分析研究中 ...

#16. OIS-Four | 离子源| 产品介绍

栅网口径虽然只有10CM，但是设计上充分考虑到高电流密度，均一性，搭载在光驰的成膜设备OTFC-600,OTFC-900进行工件架的全面照射，最适于各种光学滤光片的中规模量产，试制 ...

#17. 霍尔无栅离子源的研制及应用

暋暋[摘暋要]暋基于离子束辅助镀膜技术,自主研制了一款新型霍尔无栅离子源,利用该离子源,采取离子束辅. 助沉积方法,在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜,并对所镀制光学 ...

#18. 離子源

離子源 ，是使中性原子或分子電離，並從中引出離子束流的裝置。它是各種類型的離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控 ...

#19. 鍍膜應用中常見離子源簡介

光學 薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現。常規鍍膜工藝要求升高基底溫度；而較先進的技術，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD ...

#20. 離子輔助蒸鍍機(Ion-Beam Assisted Deposition,IBAD)

當電子槍式蒸鍍鍍方式變成光學鍍膜的主流後，利用 ... 圖示為熱蒸鍍腔體內部圖(1)為蒸鍍載台，(2)為膜厚偵測器，(3)為離子源發射器，(4)為電子束蒸鍍區。

#21. 离子源- RF - VEECO

... 光学镀膜的离子束辅助沉积或离子束沉积。它具有业界唯一的无灯丝RF 中和器，其维护工作少，支持长时间的运行。12 厘米RF 离子源非常适合于使用含100% 氩气、氧气或其他 ...

#22. 离子源技术及其在真空镀膜中的应用

如果是镀光学膜，则主要要求离子电流能级集中，离子电流均匀性好。故最好用Kaufman或RF离子源，有条件的可采用ECR（电子回旋）或ICP(感应耦合)离子源。

#23. 质谱为什么需要不同离子源 - 分子科学公共实验平台

... 离子质荷比的仪器。质谱仪器主要由进样系统、离子源、离子光学系统、质量分析器、检测器、数据采集系统以及真空系统组成。离子源是质谱仪的关键部件之一，离子源的作用 ...

#24. 電漿離子源蒸鍍設備

電漿離子源蒸鍍設備. 產品分類： 真空蒸鍍系統, 真空設備 · Prev上一產品電子束蒸鍍 ... 光學即時產品監控系統 · LOAD-LOCK批次連續式磁控濺鍍設備 · 地址：248016 新北市五 ...

#25. 相同关键词【电子束离子源】论文列表-- 中国光学期刊网

利用电子束离子源(EBIS)或者电子束离子陷阱(EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面,离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线;并将高荷态离子束采用离子光学系统 ...

#26. 日本製離子源之鉬電極板

離子源 之鉬電極板(Mo Grid)特別使用於高階的光學鍍膜製程中，例如光學鏡片工廠採用的離子輔助蒸鍍 (Ion-beam Assisted Deposition ) 等相關離子源設備。 上一個 回列表 ...

#27. 離子源燈絲- 產品介紹

離子源 燈絲- 產品介紹- 三達光學 ... 視使用的離子源設備，我們提供固定規格之離子源燈絲，亦接受客製。 若有客製需求，也請提供需求的燈絲直徑，長度以及線圈 ...

#28. 離子束製程技術簡介(下) - 台灣儀器科技研究中心

實驗中反應氣體經. 由Kaufman 型式離子源中高壓電場解離後，形成. 中性高能離子束 ... 薄膜的光學性質很容易因調整離子輔助製程條. 件而改變，主要的原因即是高能粒子的 ...

#29. 清洗离子源- LC-MS基本原理

清洗离子源. Contamination of the sampling orifice or tube can prove to be detrimental to the performance of the instrument, in some cases leading to very ...

#30. 6.3.2 离子源

光学 镀膜 · 集成检漏系统的真空镀膜线 · 半导体 · 沉积 · 刻蚀与清洁 · 离子注入 · 晶圆搬运 ... 由于其相对开放的结构，通过解 吸和表面反应，只有轻微的数据偏差。 网格 ...

#31. 光學鍍膜機離子源中和器導線議價A37-3911A37-3912A37 ...

光學 鍍膜機離子源中和器導線議價A37-3911A37-3912A37-3913現貨咨詢 · 優惠活動看全部 · 運送NT$ 45 - NT$ 500合併運費規則 · 付款 · 尚未有評價 · 賣家資訊.

#32. 射频聚焦离子源熔石英高确定去除特性研究

其中，RF离子源可通过射频匹配网络将能量耦合至放电腔内实现气体高密度电离，获得较高的刻蚀速率，辅助于多轴运动系统，该源可在真空状况下由点及面，实现光学元件表面面形 ...

#33. 聚焦離子束儀 - airTMD設備共享平台

聚焦離子束的基本系統單元包括離子源、離子光學、基板平台和真空腔體，先進的系統中還包含電子束系統與反應氣體注入系統，離子經由上層鏡組(Upper Lens)被聚焦與準直成平行 ...

#34. 聚焦離子束顯微鏡（FIB）

聚焦離子束顯微鏡是運用鎵（Ga）金屬來做為離子源，鎵的熔點為29.76°C，在此時的蒸氣壓為«10-13 Torr，適合在真空下操作。在使用時，液態的鎵會沿著燈絲流至針尖，當 ...

#35. 離子源原理

離子源 原理. 2021-09-06 由 深圳真空行業協會 發表于科學. Anode layer ion source的基本結構和演化. 正交場放電，為什麼是陽極層？ 陽極層加速原理，濺射的影響，離子 ...

#36. 多功能系列化离子源研究

光学 镀膜过程中，常常需要离子束进行辅助，而离子源是实现离子束辅助镀膜的关键装置。其主要作用在于： ① 提高薄膜的机械特性、抗腐蚀能力和稳定性；

#37. 离子源溅射原理

该放电等离子体在发散磁场作用下引向栅网离子光学作用区。由于离子光学的作用，离子被拔出，并形成离子。每个小孔形成的离子束经过发散混合及中和形成 ...

#38. 鍍膜技術實務

離子 束濺鍍法(I B. S i D. i i IBSD)：. 離子束濺鍍法(Ion Beam Sputtering Deposition, IBSD)：. 在高真空中利用獨立之離子源發射離子束濺射靶材，將靶. 材上的原子一 ...

#39. 非球面光学元件的离子束抛光原理- MEMS代工和封装测试- 微迷

RF型射频离子源最早是由德国Giessen 大学的H.W. Loeb 教授于上世纪六十年代发明，具有结构简单、无极放电的优点，且经过多年的发展，已广泛应用于精细 ...

#40. 質譜：離子化方法（二） - 科學Online

場游離源(field ionization source) 由距離很近的陽極和陰極所組成，在 ... 【2014諾貝爾化學獎】 ...

#41. 对光学透镜等精密零件进行离子束加工

由于可达到非常高的精度，离子束加工（IBF）可以很好的作为最后的处理步骤。之后，譬如，根据产品和技术，还会进行光学表面的涂层处理。 用于光学表面加工的离子源.

#42. Ion Source Options

4個透鏡離子光學系統與集成電離器：此外，還可以分析分析儀外部產生的低能量正離子 ... RGA離子源| 電子衝擊離子源. 相關產品. RGA Series · EPIC · IDP · 3F-PIC · Require.

#43. 離子源Ion Source: 最新的百科全書

離子源 是產生原子和分子離子的裝置。離子源用於形成質譜儀、發射光譜儀、粒子加速器、離子注入機和離子發動機的離子。

#44. 离子源增强电子束蒸发镀膜机制备均匀的光学薄膜

离子源 增强电子束蒸发镀膜机制备均匀的光学薄膜 ; Electron gun: 1 set of new electron gun, 6-hole crucible ; Ion source: 1 set of Kaufman ion source K08 ; After-sales ...

#45. 以離子源助鍍法蒸鍍ZnS 光學薄膜應力特性之研究

3. 離子源輔助系統：使用無柵極離子源(SINTECH Ion System. ST-2000 型)其工作電壓範圍為40~300V，陽極電流範圍為0.5~3A。 4. 監控系統採用石英振盪器監控薄膜厚度，量測 ...

#46. 离子镀膜中的离子源介绍

阳极离子源的离子电流也较大。但是离子电流发散，能级分布太宽。一般适用于大型工件、玻璃、磨损和装饰工件。然而，在先进的光学 ...

#47. Kaufman低能宽束离子源的结构原理

Kaufman离子源是由阴极(Cathode)、阳极(Anode)、栅极(Grids)、放电室圆筒构成气体放电室(Discharge Chamber),栅极构成离子光学系统。

#48. 高频离子源的光学设计

高频离子源采用管道式引出结构和三圆筒单透镜聚焦系统.根据设计指标要求和离子光学原理,经过计算和优化,确定了引出系统和聚焦系统的主要参数.采用传输矩阵和束矩阵 ...

#49. 什麼是離子化以及如何測量分壓

分壓測量. 由離子源中氣體產生的離子數i + gas 與發射電流i – 、特定離子化Sgas、代表 ... 因此，傳輸係數(也是：離子光學傳輸) 是所測量離子與所產生離子的商。 因此. gas ...

#50. 廣東高田光學科技有限公司精密光學鍍膜機廠家電子束蒸發 ...

... 光學科技有限公高田光學成立於2018年，是一家專注於薄膜沉積裝備製造的全球化企業，產品廣泛應用於光學 ... 離子鍍膜機、RF射頻離子源、空心陰極離子源。公司總部位於廣東， ...

#51. 先鋒科技光電代理產品中心

... 光學遠場,近場量測,鎖相放大器,RGA殘餘氣體分析儀,光學探測器,ND Filter光學濾光片/衰減片,精密位移平台及光學 ... CIS閉離子源氣體分析儀/質譜儀. 製程監控系統. 市場價: ...

#52. 光驰离子源中和器导线--光学镀膜材料_溅射靶材_AF防水药

东莞市麦恩光电材料有限公司专业产销,光学镀膜材料,溅射靶材,AF防水药,联系电话：13602399673.

#53. 离子源电子束蒸发镀膜仪

该电子束蒸发方式镀膜仪，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。

#54. 霍尔离子源-射频离子源-镀膜机-离子源生产厂家-中山市博顿 ...

博顿光电”是一家专业从事新型离子源及离子束装备关键技术研发、设计和制造的创新型高科技企业，2019年认定为国家高新技术企业，2021年获批成立“广东省离子束装备工程 ...

#55. 漫谈离子源- 分析行业新闻

对于无机质谱，常见的离子源包括电子轰击离子源（Electron impact ionization ... 在电子轰击离子源的内部有一套加工和组装十分精致的离子光学透镜系统。以Delta V ...

#56. MEB800S离子束辅助沉积光学镀膜系统（Ion beam assisted ...

... 光学监控系统、OMS、 金属膜、. 氧化膜、IBAD、IBD、光学薄膜、紫外、红外膜、增透膜、增反膜、二氧化硅/铝复合膜. 热蒸发源：多个. 电子束蒸发源：多坩埚. 高真空系统 ...

#57. FEI Versa 3D 高解析雙束型聚焦離子束系統FIB

聚焦離子光學系統. • 高離子電流Ga 液體金屬離子源. • 加速電壓: 2~30 KV. • 離子束電流: 65 nA. • 放大率:40X~120,000X. • 離子束解析度:7 nm at 30 KV. 2. 監控型掃描 ...

#58. 离子源-离子束溅射-离子源栅网-北京光友科技有限公司

该二代驱动器不仅减小离子源电源的体积和重量，简化了操作，同时采用了反馈技术，提高了离子源的稳定性和重复性，可靠性大大提高，更好的适合了规模化生产，是国内光学产业 ...

#59. 鍍膜技術介紹

... 離子束輔助方式改善緻密性，提高附著力與表面硬度。 離子束濺鍍(IBS) 在高真空狀態下以獨立離子源向靶材方向發射離子束，利用高能量離子撞擊將靶材 ...

#60. 离子束蚀刻--技术文章频道 - 化合物半导体

如图所示，三栅网结构的离子束源可以在栅网间施加特定的电压来驱动离子并对离子进行光学聚焦。 ... OIPT离子束源（蚀刻源）是双离子溅射（Dual Ion Beam ...

#61. 離子源改質鍍膜

關鍵字：高功率脈衝磁控濺鍍；離子源改質鍍膜；類鑽碳薄膜；靶材毒化；光學模仁；塑膠射出成形；塑膠光學鏡片. 本申請案將與佶興科技公司合作，共同發展高功率脈衝磁控 ...

#62. IBF 离子束抛光工艺用考夫曼离子源

价格货期电议. KRI 考夫曼离子源典型应用IBF 离子束抛光工艺离子束抛光加工Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺, 离子源是离子 ...

#63. 聚焦離子束微納加工技術（簡體書）

本書重點講述聚焦離子束技術的原理；聚焦離子束系統的結構，包括離子源、離子光學柱體、圖形發生器和精密工件臺等；聚焦離子束技術的應用實例和發展前景。同時還探討了聚焦 ...

#64. 雷射輔助基質離子-飛行時間質譜儀

採用獨家研發的SpiralTOF模式離子光學系統，在寬分子量範圍內，保證高質量 ... 2.高精準選擇離子單一同位素分析 •長距離飛行解析度非常高 •由離子源到離子閘門距離15~17公尺

#65. 强流离子源光腔衰荡光谱应用研究

1 CRDS氢负离子密度的测量原理. 光腔衰荡光谱法是一种超高灵敏探测吸收光谱技术。 CRDS基本组成包括激光源、 由两片高反射镜构成的光学衰荡腔、 光学探测器和数据采集系统( ...

#66. 超高精度离子束抛光工具设计与性能分析

光学 镜面的离子束加工是利用聚焦离子源产. 生稳定低能束流，利用离子溅射效应对材料 ... 离子束抛光工具主要由离子源、聚焦离子光学. 系统以及中和器组成。离子束抛光工具 ...

#67. 高频离子源引出结构最佳尺寸的光学计算

目录. 高频离子源引出结构最佳尺寸的光学计算. 盛谏. 收稿日期: 1962-07-28; 修回日期: 1963-03-25; 刊出日期: 1963-06-05. 摘要: 本文对离子流的引出机构作了简化模型 ...

#68. PVD镀膜工艺中常见的几种离子源

但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于高级光学镀膜并不太多。 考夫曼 ...

#69. 單四極桿液相層析質譜儀LCMS-2020

LCMS-2020採用獨特設計的離子源和離子光學系統，具有超快速掃描UFscanning快速掃描，達到15,000 Da/s、高速正負極性切換功能UFswitching達到超高速的15 ms 正負離子 ...

#70. 輔仁大學ph102光學薄膜研究室

將Ion beam figuring的3cm 離子源加裝mask後得到1mm寬的離子束. Robert Jann and 6 ... 光學鍍膜的太陽眼鏡使窗戶的格子重新看到了，有效達到眩光減低。 Robert Jann and ...

#71. 工厂直供定制加工电子枪丝离子源丝真空镀膜用钨丝光学镀膜

密度19.3/cm3熔点3410℃应用真空镀膜，光学镀膜材质钨产地宝鸡规格根据客户需求厚度根据客户需求加工精度精加工牌号W1杂质含量0.05%执行标准国标种类钨 ...

#72. Top 100件離子鍍膜機 - 淘寶

鍍膜機離子源氣體分流器分流片分E氣盤分配器均氣盤反射板配件. ￥. 8. 已售1件. 收藏. -評價 · 光學鍍膜機離子源中和器陶瓷W66 ...

#73. 歡迎光臨東聯光電

本公司鍍膜機所配備的是德國萊寶光學(Leybold Optics)的專利-APSpro(Plasma Ion-beam Assistant Deposition)，因為設備承載量大，單台鍍膜機甚至搭配兩組離子蒸鍍源；基於 ...

#74. 双等离子体离子源的工作特性

摘要： 针对双等离子体离子源受气压、磁场强度和放电电流影响，产生的O -离子束亮度不稳定的问题，设计并搭建了一套用于测试离子束亮度的离子光学系统，以SHRIMP II上的 ...

#75. 光學材料部

高折射率薄膜材料，化學特性穩定，也不溶於水，在紅外光與可見光區也是透明的，不管是電子鎗蒸鍍法、 磁控濺鍍法或是離子 ... 源燈絲而設計，廣泛應用於汽車、手機、鏡面 ...

#76. 仪器科普| 质谱仪离子导向装置类型及特点

质谱分析首先将待测物电离，并在真空条件下利用电场(磁场)将不同质荷比离子进行分离，从而获得质谱图。质谱仪器主要由进样系统、电离源、离子光学系统、 ...

#77. 脉冲激光离子源飞行时间质谱计的研制

离子源 又可分为激光等离子体产生与激光脱附. 两种,. 本文的研究属于前者 . 二. 、. 仪器构造. 仪器的基本结构如图1 所示。 它主要包括. 高真空系统,. 脉冲激光源与光学系统 ...

#78. 光馳OPTORUN 光學鍍膜機

HOM2-R-VIS350A 光學膜厚監控儀. 波長範圍：350nm to 1100nm. 光學膜厚控制. 反射式/透射式可選. 水晶式膜厚計. XTC/3+6 點式水晶傳感器. 蒸發源. 電子槍2 套. 離子源.

#79. 高出力RF离子源ISG-180

RF离子源。ISG-180。可在大范围内稳定放电，用于镀制无漂移光学薄膜，以及提高树脂基片镀膜的密着度。运用独特的技术，达到稳定放电。

#80. 熱穩定單原子針的製備、特性與應用前景

利用氣體場離子作為離子源的好. 處是離子束不會污染樣品，而且可因應用目的不同改 ... 然如果要達到此一目標，還有其他技術上的. 挑戰需要克服，如需要高品質的光學系統， ...

#81. 射频离子源

一站式解决方案. 产品中心. 作为定制解决方案的设计者，我们一直在寻找新的技术和挑战。 请毫不犹豫地向我们描述您的问题，即使它不符合我们下面列出的类别。

#82. EASY-ETD 和EASY-IC - 离子源用户手册

具有第二个离子源— 反应离子源（RIS）。 RIS 安装在ETD/IC 离子源加热器接口. 中 ... 离子光学组件负责从离子源到质量分析器的离. 子聚焦和传输。 补偿气体与可选的EASY ...

#83. OIS-One/OIS-Two/OIS-Two Plus

搭载在光驰的OTFC-1300，OTFC-1550成膜设备上可适合于各种光学滤光片的大规模量产。 特征: 同使用灯丝型的离子源比较，寿命长，污染少。 高离子电流密度和均匀分布 ...

#84. 電子束蒸鍍設備

為了獲得最大的製程靈活性，可以結合離子源以進行離子輔助沉積或者預清潔等功能。 應用領域, 腔體. 光學材料研究(LED/Laser Diode)。 光電元件。 半導體元件。 由304 ...

#85. 电子枪和离子源

形成细聚焦电子束探针。 ➢聚焦细束电子（离子）枪，主要涉及加速电位较高，并具有高分辨率的电子光学.

#86. 光学应用中的离子束技术

衬底周围表面的溅射可通过离子源的方. 向性和低的背景气压消除。 离子束辅助淀积. 在薄膜存在过程中,薄膜稳定性是光学. 应用的关键因素 ...

#87. 考夫曼离子源应用于IBF 离子束抛光工艺_美国

离子 束抛光加工Ion Beam Figuring, IBF 已逐渐成为光学零件表面超精加工常用的最后一道工艺, 离子源是离子束抛光机的核心部件.

#88. 薄膜製程

▫ 對於大型離子源，放電室很大，Vd有的必須加. 高到50V以上才能維持電漿態的穩定。 3.離子光學(ion optics). ▫ 寬束離子源之多孔柵極構成離子光學影響 ...

#89. 基質輔助雷射解析離子化飛行時間質譜儀MALDI-TOF MS ...

此離子光學元件技術可長時間降低離子源污染。另外為了使有效操作時間更加延長，MALDI-8020可以在不破壞真空狀態下進行離子引導電擊的清洗，所採用UV雷 ...

#90. 二手华源光学镀膜设备阻蒸电子枪离子源全配低温光学镀膜机

二手华源光学镀膜设备阻蒸电子枪离子源全配低温光学镀膜机 · 二手真空电镀机，离子镀膜机维修，二手中频磁控镀膜机，二手真空泵，真空镀膜电源低价转让，二手蒸发镀膜机， ...

#91. EAST-NBI离子源电极打火分析及处理

本文结合离子源运行过程中的束引出实验波形和水流量热计（Water Flow Calorimetry，WFC）系统的测量数据得出等离子体发射面的束流光学系统一直处于非最佳 ...

#92. 如何在複雜的石油化學品中快速找到生物標誌Biomarker

... 源，離子轉移系統和離子光學系統如圖3所示。 離子轉移系統和離子光學系統 △圖3 離子源,離子轉移系統和離子光學系統. 結果. 本文利用二維GC搭配EI/PI ...

#93. 离子束技术及应用- 图书

离子 束技术及应用豆瓣评分：0.0 简介：本书介绍离子束技术及应用。全书共分六章，其中包括：电子轰击离子源等离子体特性及设计基础；离子光学系统及基本设计方法； ...

#94. 离子束辅助的离子束溅射系统（IBSD） - 鑫镭真空

离子 束辅助沉积是在沉积过程中辅助离子束照射在基板上形成电场提高成膜速率，改善成膜的物理密度和光学及机械性能。 ... 因系统对高能离子源和辅助离子源的性能和控制精度 ...

#95. 离子源| COTEC有限公司

精密光学 · 特种光学. 技术研发. 应用领域 · 产品研发. 产品研发. 研发项目 · 项目资助方 ... 离子源. COTEC ® 可供应MARK I 和MARK II 离子源的备件和耗材。 MARK I; MARK II ...

#96. 解答关于霍尔离子源的几个问题

关键词：光学镀膜，离子束辅助镀膜，等离子体加速。 pY (S] i 一、 前言 ... 我们根据能量阻滞器实测的霍尔源平均离子能量与阳极电压的关系见图1。

#97. FIB聚焦离子束常见的应用场景分析

系统及原理双束聚焦离子束系统可简单地理解为是单束聚焦离子束和普通SEM之间的耦合。单束聚焦离子束系统包括离子源，离子光学柱，束描画系统， ...

#98. 軟性光學基板濾光元件 - CITD協助傳統產業技術開發計畫

依客戶端規格書所訂定,其環測條件中有一項. 是135℃,20分鐘的環境下,膜質不可產生變異,. 因此首先設定蒸鍍溫度為130℃,離子源條件如. 下: 製作完成的濾光片,光譜穿透率450~ ...