乾式 微影技術為了解決接近式曝光技術的問題，ASML透過投影式曝光技術(Lithography Projection Printing)協助半導體產業往前邁了一大步！ ... <看更多>

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4 項微影曝光設備包括EUV 曝光薄膜設備、EUV 曝光的薄膜製造設備、EUV 曝光 ... 日本只允許開放193 奈米以上波長、乾式設備，意味中國最多可能只能做 ... ... <看更多>

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其中，4 項微影曝光設備包括EUV 曝光薄膜設備、EUV 曝光的薄膜製造 ... 此外，日本只允許開放193 奈米以上波長、乾式設備，意味著中國最多可能只能 ... ... <看更多>

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