雖然三星在晶片技術方面野心勃勃，但韓媒表示，還需要好好克服「不良率過高」的問題啊～ 🧐
#三星 #晶片 #晶圓廠
1奈米以下製程 在 Yahoo奇摩3C科技 Facebook 的最佳解答
同時也有10000部Youtube影片，追蹤數超過2,910的網紅コバにゃんチャンネル，也在其Youtube影片中提到，...
「1奈米以下製程」的推薦目錄：
1奈米以下製程 在 國立臺灣大學 National Taiwan University Facebook 的最佳解答
【挑戰物理極限 臺大攜手台積電、MIT跨國研究登Nature】
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本校與台積電、美國麻省理工學院(MIT)合作研究發現二維材料結合半金屬鉍，能達極低電阻，接近量子極限，有助實現半導體達1奈米以下製程挑戰，提高晶片性能並減少耗電，論文已發表於國際期刊「自然」(Nature)。
到底有多厲害？幾個資訊讓大家對照了解，IBM月初才宣布推出全球首個2奈米晶片製造技術引起注意，現在市場主流是7奈米晶片，IPHONE 12手機則是使用5奈米晶片。
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詳見：
https://www.ntu.edu.tw/spotlight/2021/1949_20210514.html
延伸閱讀：
中央社「台大跨國二維材料研究 有助半導體產業邁向1奈米」：
https://www.cna.com.tw/news/ahel/202105140051.aspx
自由「台大攜手台積電、MIT 為半導體產業開創新路」：
https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/3531970
Nature期刊連結：
https://www.nature.com/articles/s41586-021-03472-9
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#臺大電機系 #臺大光電所 #半導體 #吳志毅 #沈品均 #周昂昇 #台積電 #MIT #Nature #1奈米 #科學研究的快樂就是那麼樸實無華且枯燥
1奈米以下製程 在 環境資訊中心 Facebook 的精選貼文
竹科 #寶山2期 政策環評，環委聚焦開發範圍選址風險。🧐
為提供台積電2奈米廠進駐，竹科提出竹科寶山2期擴建計畫，但歷經兩次環評初審都卡關，環保署9日召開政策環評意見徵詢會。
這次政策環評，環委將焦點放在計畫選址問題。環委認為，計畫範圍鄰近農地、山坡地、斷層區域，有引發污染及複合型災害的風險，希望竹科能說明為何選擇在此興建半導體廠房，補正後送環評委員會討論。
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1奈米以下製程 在 [新聞] 挑戰摩爾定律極限ASML開發1奈米製程曝- 看板Tech_Job 的推薦與評價
挑戰摩爾定律極限 ASML開發1奈米製程曝光設備
2020/12/02 05:30
〔編譯盧永山／綜合報導〕
據日本Mynavi News網站報導，日前在東京落幕的二○二○年IMEC科技論壇，比利時半導體
研究機構IMEC正式公布與荷蘭半導體設備大廠艾斯摩爾（ ASML）合作研發的新一代高解析
度EUV曝光技術（ High NA EUV）；
根據公布內容，ASML對三奈米、二奈米、一．五奈米、甚至小於一奈米製程，都做了清楚發
展規劃，顯示ASML已能開發一奈米製程的曝光設備。
摩爾定律（Moore’s law）指的是積體電路上可容納電晶體數目，約每隔十八個月增加一倍
、性能也提升一倍，近幾年來因電晶體尺寸縮小速度趨緩，業界對摩爾定律是否已到盡頭爭
論不斷。
最快二○二二年商業化
IMEC執行長范登霍夫（Luc Van den Hove）透露，該機構與ASML共同開發High NA EUV已取
得突破，即使製程到達一奈米甚至更小，製程微縮化仍會繼續，摩爾定律並不會停下來；
IMEC也在論壇上公布三奈米、二奈米、一．五奈米、甚至小於一奈米的邏輯元件製程微縮路
線圖。
晶圓代工大廠台積電和三星電子要投入二奈米以後的超精細製程，亟需高解析度及高曝光設
備；ASML已完成高NA EUV曝光設備的基本設計，型號為NXE5000系列，商業化時間預定最快
在二○二二年左右，這套新一代曝光設備將因龐大的光學系統而變得非常巨大。
范登霍夫指出，邏輯元件製程微縮的目的在於降低功耗、提高效能、減少面積以及降低成本
；隨著製程向三奈米、二奈米、一．五奈米、甚至到一奈米以下發展，他們將繼續開發微縮
製程技術，以滿足對未來先進科技應用的需求。
https://ec.ltn.com.tw/article/paper/1416411
心得：
根據先前晶圓大工大廠台積電和三星電子介紹，從 7 奈米製程技術開始，部分製程技術已
經推出了 NA=0.33 的 EUV 曝光設備，
5 奈米製程技術也達成了頻率的提升，
但對於 2 奈米以後的超精細製程技術，則還是需要能夠達成更高的辨識率和更高 NA （NA=
0.55） 的曝光設備。
事實上，過去一直與 IMEC 緊密合作開發半導體曝光技術，但為了開發使用高 NA EUV 曝光
設備，ASML 在 IMEC 的園區內成立了新的「IMEC-ASML 高 NA EUV 實驗室」，以達成共同
開發和開發使用高 NA EUV 曝光設備的相關技術。
而且，該公司還計劃與材料供應商合作，進一步進行光罩和光阻劑。
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○ PiTT // PHJCI
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中國國民黨中央執行委員會特務委員會特工總部，為第二次世界大戰時期汪精衛政權奉日
軍令設置於上海市的特工總部，因其所在地為上海市滬西越界築路地段的極司非爾路76號
（今萬航渡路），又被稱為76號。鄰近上海日本憲兵隊。在76號內裡常刑囚拷打重慶
分子、抗日志士。
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