【專訪 #胡國強 ：中國半導體為何落後？問題在「生產技術」】https://bit.ly/3A585JA
中國的 #半導體製造 為何相對落後？ 台灣 #晶圓代工 大廠聯華電子（UMC）前董事長胡國強表示，最主要還是「生產工藝Manufacturing Technology (台灣譯成生產技術) 」的落後。
生產設備需要投資的金額非常大。再加上，#美國政府 限制賣先進設備給中國，例如荷蘭設備商ASML不准賣EUV（極紫外光）的光刻機器，那中國就無法做出7奈米及更先進工藝的產品。應用面受到的影響包括智慧型手機、人工智慧、高速運算等。
另一方面，生產經驗的累積是最大的因素。從14奈米到7奈米，你需要更新的設備、有更新的技術障礙。這些技術障礙不僅繁雜，更需要專門技術的人來操作與控制設備，讓做出來的產品有很好的良率。「這就是我們講的需要經驗的累積，你要有懂設備方面的知識和實際操作經驗的人才（talent）。」
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#端傳媒 #六週年 #半導體 #台積電 #聯電 #晶圓
asml euv光刻機 在 [新聞] ASML公布最新一代EUV光刻機：更先進了- 看板Stock 的推薦與評價
1.原文連結：
官方網站附財報
https://www.asml.com/en/news/press-releases/2020/q3-2020-financial-results
繁中版網站
https://codingnote.cc/zh-tw/p/238910
2.原文內容：
ASML公布最新一代EUV光刻機：更先進了
10月14日，荷蘭ASML（阿斯麥）公布了光刻機產品的最新進展。
其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發中的最先進光刻機系統，終於敲定最終規格。
具體來說，30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，並改進
機器匹配套准精度至1.1nm。
3600D定於2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時間等待，價格應該不會低於現款老型
號的1.2億美元。
目前，ASML已經投產的最先進光刻機是3400C，但主力出貨型號是3400B。參數方面，
3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓。
另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟體升級。全新的DUV光刻機TWINSCAN
NXT:2050i已經在三季度結束驗證，四季度早期開始正式出貨。
據悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60台光刻機收入，出貨了10台EUV光刻機。
3.心得/評論：
這壟斷性更強了，仰賴電子元件的奈米機器人應該會有新的型號跟應用了。
反正封裝端一定能吃到訂單可以找低點布局。
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作為密義源起供養；然而聚歛於上的是冥界的深冤與大樂奔瀉的淨慈，行者於閉關修持
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