負光阻. ▫. 經曝光後變不可溶. ▫. 經顯影製程，未曝光部. 分溶解. ▫. 較便宜. 正光阻. ... <看更多>

負光阻. ▫. 經曝光後變不可溶. ▫. 經顯影製程，未曝光部. 分溶解. ▫. 較便宜. 正光阻. ... <看更多>

芯片制造详解04：光刻技术与基本流程 ... (上)｜記得開字幕｜台積電TSMC｜聯電UMC｜半導體工程師必備 英文 ｜工程師口語 英文 ｜. 漢斯日常Hans' Daily. ... <看更多>

負光阻. 正光阻. (Negative Photoresist). 曝光部分不溶解. (Positive Photoresist) ... 在DUV光線照射下造成光阻產生光酸... 烘烤(PEB)製程中, 催化反應下會驅使光酸. ... <看更多>

負光阻. 正光阻. (Negative Photoresist). 曝光部分不溶解. (Positive Photoresist) ... 在DUV光線照射下造成光阻產生光酸... 烘烤(PEB)製程中, 催化反應下會驅使光酸. ... <看更多>