乾式微影 技術為了解決接近式曝光技術的問題,ASML透過投影式曝光技術(Lithography Projection Printing)協助半導體產業往前邁了一大步! ... <看更多>
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乾式微影 技術為了解決接近式曝光技術的問題,ASML透過投影式曝光技術(Lithography Projection Printing)協助半導體產業往前邁了一大步! ... <看更多>
(一) 製程概觀參考書籍: Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology by Xiao 半導體製程主要分六個module, 分別是: 微影(lithography) , 蝕刻(etching) ... ... <看更多>
優點是可以大幅增加PCB電路板可用面積,使得產品盡可能的微型化。 PPT - CH 4 生產微機電元件之關鍵 製程 微影 乾式蝕刻製程:直接以雷射光束進行乾式 ... ... <看更多>
以浸潤式(Immersion) 微影 技術改寫全球半導體 微影 發展的台積電前研發副總經理、 ... 過去半導體晶片製程主要採用 乾式 曝光,以空氣為鏡頭和晶圓之間的 ... ... <看更多>
https://ec.ltn.com.tw/article/paper/1442561 林本堅發明浸潤式微影 ... 研發出浸潤式微影取代乾式微影,讓台積電成功引領全球半導體業技術走向, ... ... <看更多>