安堉創新，幫助台廠掌握未來Micro LED技術！
#工業局50週年 #深耕工業基礎專文
「Micro LED未來將成為顯示技術主流。但LED製程機台的關鍵零組件多掌握在原廠手中。安堉創新研發國產自主硬軟體設備，讓臺灣LED廠商掙脫原廠束縛，打開未來新局」。
🔹工研院新創事業，推動設備國產自主🔹
無論是5G或Micro LED，甚至是半導體製程
都會應用到 #MOCVD技術 (金屬有機化學氣相沉積技術）
勢必將在未來幾年逐步成熟、進入量產
在上游廠商蓄勢待發的同時
支援生產製造的下游廠商，你準備好了嗎☝？
看準MOCVD未來的潛力商機與技術獨特性
由工研院機械所團隊獨立出來的新創公司 #安堉創新
已經準備好以MOCVD技術，在市場大顯身手！
🔹掌握磊晶製程，擺脫受限國際大廠的困境🔹
所謂的「MOCVD」
其技術原理是在設備內部注入 #特殊氣體
並透過 #加溫 讓氣體起化學反應產生 #金屬有機化合物
沉積在機台裡面的基板上
形成原子排列而且整齊堆積的薄膜
這也就是所謂的「#磊晶」。
MOCVD除了是磊晶製程中使用的重要儀器之外
也是生產LED的主要機台
而其中，#噴灑頭 為關鍵零部件
這也正是安堉創新在MOCVD技術的突破點。
🔹創新硬軟體設備，提高生產效能🔹
過去MOCVD為雙噴灑頭，氣體噴灑勻度不佳
安堉創新採用 #同心圓銅管 內外圈同時噴灑氣體
由內外兩圈噴灑不同氣體
在氣體噴出瞬間就已均勻混合
金屬化合物的沉積也因此✅更均勻、✅良率更高
使用的氣體流量更比原技術少10％
除此之外
安堉創新的團隊開發出「CyberEpi軟體」
可將製程配方尋找時間由過去的2週縮短至2小時⏰
🔹以關鍵零組件協助客戶舊機活用🔹
除了大幅改善噴灑頭品質、縮短開發時程
安堉創新MOCVD技術的最大商業價值
在於掌握MOCVD關鍵零組件
讓臺灣業者不再受制於國外大廠
目前安堉創新已握有多項軟硬體專利並獲得大獎
例如噴灑頭模組在2014年拿到 #國家發明獎
CyberEpi軟體則在2017年獲得 #全球百大科技研發獎
技術獲得全球肯定👍
一個台灣本土產業的明日之星，正在慢慢崛起！
👩🏫 金屬有機化學氣相沉積MOCVD關鍵軟硬體技術簡介
#定義：是一種製備薄膜材料的技術。
#特色：混合兩種特殊氣體，形成化學反應，將反應物沉積於晶片表面，形成半導體結晶膜，進而製成半導體發光材料。
#影響：改善既有噴灑頭的品質與開發時程。
#市場成就：改善MOCVD噴灑頭勻度與氣體使用量，製程與設備優化軟體((CyberEpi))可將製程配方尋找時間由過去的2週縮短至2小時，同時藉由關鍵零組件的掌握，活化舊有機台，協助LED業者不再受制於國外大廠。
#研發困境：過去MOCVD為雙噴灑頭，氣體噴灑勻度不佳，安堉創新採用同心圓銅管內外圈同時噴灑氣體，第一時間融合氣體，並提升噴灑均勻度。此外，MOCVD製程配方尋找只能從原廠提供的資料庫比對配置，製程與設備優化軟體則透過大數據與AI，縮短最佳化配方組合配對時間。
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